高壓激光熱處理系統主要用于固體樣品在高溫高壓下的催化氧化反應，反應池添加液氮制冷模塊，方便對樣品進(jìn)行退火處理。
| ● 采用激光加熱，可在短時(shí)間內快速加熱樣品； | ● 液氮降溫模塊，可做樣品退火處理； | ● 反應腔密封壓力：5 bar； |
| ● 測溫：K型熱偶@冷頭，紅外測溫儀@樣品托； | ● 溫度范圍：150-1300K； | ● 精準控溫：PID控溫精度可達±0.1K |
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